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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第4414位 4件 (2018年:第12401位 1件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第2668位 5件 (2018年:第5366位 2件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-165199 | 非線形的線量およびブラー(ボケ)に依存するエッジ配置の補正 | 2019年 9月26日 | |
特開 2019-149370 | 荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 | 2019年 9月 5日 | |
特開 2019-75543 | マルチビーム描画装置において露光される露光パターンにおける線量関連の特徴再形成 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-71411 | 限定的位置付けグリッドを用いるターゲットの照射方法 | 2019年 5月 9日 |
4 件中 1-4 件を表示
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2019-165199 2019-149370 2019-75543 2019-71411
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