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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第3594位 5件
(2023年:第3738位 5件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第6346位 2件
(2023年:第6302位 2件)
(ランキング更新日:2025年4月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7555297 | 荷電粒子源 | 2024年 9月24日 | |
特許 7551329 | マルチビーム描画機における露光スロットの持続時間の適合化 | 2024年 9月17日 |
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7555297 7551329
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4月4日(金) -
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4月9日(水) -
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4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
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4月11日(金) -
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