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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第14391位 1件 (2021年:第7646位 2件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第3150位 5件 (2021年:第4240位 3件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7183056 | 荷電粒子ソース及びバックスパッタリングを利用した荷電粒子ソースのクリーニング方法 | 2022年12月 5日 | |
特許 7183315 | マルチビーム描画機におけるブラー変化の補正 | 2022年12月 5日 | |
特許 7178841 | 限定的位置付けグリッドを用いるターゲットの照射方法 | 2022年11月28日 | |
特許 7129676 | 電子ビーム描画装置、生産装置、電子ビーム描画方法、生産方法、プログラム | 2022年 9月 2日 | |
特許 7094112 | マルチビーム描画機のための改善されたドーズレベルの量子化 | 2022年 7月 1日 | |
特許 7064831 | マルチビーム描画装置においてパターン露光密度の変化により生じるパターン位置決めエラーの補償方法 | 2022年 5月11日 |
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7183056 7183315 7178841 7129676 7094112 7064831
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12月1日(日) -
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12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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