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出願人名に「株式会社テラセミコン」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-523129 | 金属触媒を用いたポリシリコンマスクの製造方法及び該マスクを用いた半導体素子の製造方法 | 株式会社テラセミコン | 2012年 9月27日 |
| 特表 2012-521653 | インライン熱処理装置 | 株式会社テラセミコン | 2012年 9月13日 |
| 特表 2012-517074 | 誘導結合型プラズマ生成電極及びこれを備える基板処理装置 | 株式会社テラセミコン | 2012年 7月26日 |
| 特表 2012-516564 | バッチ式基板処理装置 | 株式会社テラセミコン | 2012年 7月19日 |
| 特表 2012-504703 | ソースガス供給装置 | 株式会社テラセミコン | 2012年 2月23日 |
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2012-523129 2012-521653 2012-517074 2012-516564 2012-504703
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