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出願人名に「株式会社テラセミコン」を含むもの

公報番号発明の名称出願人公報発行日
特表 2012-523129 金属触媒を用いたポリシリコンマスクの製造方法及び該マスクを用いた半導体素子の製造方法 株式会社テラセミコン 2012年 9月27日
特表 2012-521653 インライン熱処理装置 株式会社テラセミコン 2012年 9月13日
特表 2012-517074 誘導結合型プラズマ生成電極及びこれを備える基板処理装置 株式会社テラセミコン 2012年 7月26日
特表 2012-516564 バッチ式基板処理装置 株式会社テラセミコン 2012年 7月19日
特表 2012-504703 ソースガス供給装置 株式会社テラセミコン 2012年 2月23日

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2012-523129 2012-521653 2012-517074 2012-516564 2012-504703

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