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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第90位 516件
(
2012年:第90位 503件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第80位 490件
(
2012年:第83位 462件)
(ランキング更新日:2026年5月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5376273 | ボロンドープダイヤモンド焼結体およびその製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376274 | 良導電性ダイヤモンド焼結体の製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376109 | 銀微粒子の製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375312 | 多結晶シリコン製造装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5374811 | 印刷用インキ及び該インキを用いた塗膜の製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376168 | 電気銅めっき用高純度銅アノード、その製造方法および電気銅めっき方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376116 | ZnO蒸着材とその製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376149 | 親水性シリカコーティング発泡金属体 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5375707 | 磁気記録膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376250 | スパッタリングターゲットの製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5377784 | ビス(フルオロスルホニル)イミド塩及びそれを含むイオン導電材料、電解質及びイオン液体 | 2013年12月25日 | 共同出願 |
| 特許 5376117 | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5377914 | 薄膜トランジスター | 2013年12月25日 | 共同出願 |
| 特許 5370919 | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5370920 | 硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具 | 2013年12月18日 |
490 件中 1-15 件を表示
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5376273 5376274 5376109 5375312 5374811 5376168 5376116 5376149 5375707 5376250 5377784 5376117 5377914 5370919 5370920
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