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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第128位 349件
(
2017年:第131位 405件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第113位 267件
(
2017年:第112位 287件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6443041 | シリカゾル分散液及びシリカ多孔質膜形成用組成物 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6443092 | 錫めっき銅合金端子材 | 2018年12月26日 | |
| 特許 6443178 | Ag下地層付パワーモジュール用基板の製造方法、Ag下地層付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール | 2018年12月26日 | |
| 特許 6438663 | 粉塵が存在する雰囲気中の物体の温度を計測する方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6439489 | パワーモジュール用基板の製造方法及びパワージュールの製造方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6439550 | 多孔質アルミニウム焼結体、多孔質アルミニウム複合部材、多孔質アルミニウム焼結体の製造方法、多孔質アルミニウム複合部材の製造方法 | 2018年12月19日 | |
| 特許 6435711 | 放熱板付パワーモジュール用基板及びパワーモジュール | 2018年12月12日 | |
| 特許 6435801 | エンドミル | 2018年12月12日 | |
| 特許 6435945 | ヒートシンク付きパワーモジュール用基板 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6435981 | 銅合金スパッタリングターゲット | 2018年12月12日 | |
| 特許 6436006 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6436390 | 焼却灰の処理方法および処理装置 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6432208 | パワーモジュール用基板の製造方法、及び、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6432373 | ヒートシンク付パワーモジュール用基板、パワーモジュール、及び、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6432465 | 接合体、ヒートシンク付パワーモジュール用基板、ヒートシンク、接合体の製造方法、ヒートシンク付パワーモジュール用基板の製造方法、及び、ヒートシンクの製造方法 | 2018年12月 5日 |
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6443041 6443092 6443178 6438663 6439489 6439550 6435711 6435801 6435945 6435981 6436006 6436390 6432208 6432373 6432465
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