ホーム > 特許ランキング > 株式会社エスケーエレクトロニクス > 2021年 > 出願公開一覧
株式会社エスケーエレクトロニクス
※ ログインすれば出願人(株式会社エスケーエレクトロニクス)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
（
2020年：第2292位 9件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第5804位 2件
（
2020年：第2756位 5件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年
株式会社エスケーエレクトロニクスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-196515 | プロキシミティー露光用フォトマスク | 2021年12月27日 | |
| 特開 2021-189200 | フォトマスクの修正方法 | 2021年12月13日 | |
| 特開 2021-179584 | フォトマスクの検査装置及び検査方法 | 2021年11月18日 | |
| 特開 2021-176002 | フォトマスクの製造方法 | 2021年11月 4日 | |
| 特開 2021-173944 | フォトマスクの製造方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-173945 | フォトマスクの製造方法 | 2021年11月 1日 | |
| 特開 2021-139993 | ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク | 2021年 9月16日 | |
| 特開 2021-140132 | ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク | 2021年 9月16日 | |
| 特開 2021-110770 | フォトマスク | 2021年 8月 2日 | |
| 特開 2021-26159 | 露光方法及び露光装置 | 2021年 2月22日 |
10 件中 1-10 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2021-196515 2021-189200 2021-179584 2021-176002 2021-173944 2021-173945 2021-139993 2021-140132 2021-110770 2021-26159
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社エスケーエレクトロニクスの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
大阪府大阪市中央区北浜東1-12 千歳第一ビル４階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
【大阪本社】 〒534-0024 大阪府大阪市都島区東野田町1-20-5 大阪京橋ビル4階 【東京支部】 〒150-0013 東京都港区浜松町２丁目２番１５号 浜松町ダイヤビル２Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟
