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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2569位 8件
(2022年:第3387位 6件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1851位 10件
(2022年:第3150位 5件)
(ランキング更新日:2025年5月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2023-115863 | FPD用のフォトマスク、FPD用のフォトマスクにおける位置計測用マークの形成方法及びFPD用のフォトマスクの製造方法 | 2023年 8月21日 | |
特開 2023-75223 | パターン修正方法 | 2023年 5月30日 | |
特開 2023-71123 | フォトマスクブランクスの製造方法及びフォトマスクの製造方法 | 2023年 5月22日 | |
特開 2023-67975 | パターン修正方法 | 2023年 5月16日 | |
特開 2023-63046 | ハーフトーンマスクの欠陥修正装置 | 2023年 5月 9日 | |
特開 2023-50611 | フォトマスク及びフォトマスクの製造方法 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-23183 | パターン修正方法およびフォトマスク | 2023年 2月16日 | |
特開 2023-23184 | パターン修正方法およびフォトマスク | 2023年 2月16日 |
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2023-115863 2023-75223 2023-71123 2023-67975 2023-63046 2023-50611 2023-23183 2023-23184
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