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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第5242位 3件
（
2015年：第7196位 2件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第24808位 0件
（
2015年：第8612位 1件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-522860 | ウェハのメッキおよび／または研磨のための装置および方法 | 2016年 8月 4日 | |
| 特表 2016-515668 | 基板を均一に金属被覆する方法および装置 | 2016年 5月30日 | |
| 特表 2016-502275 | 半導体ウェハ洗浄方法及び半導体ウェハ洗浄装置 | 2016年 1月21日 |
3 件中 1-3 件を表示
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2016-522860 2016-515668 2016-502275
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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