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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第3520位 5件
（
2017年：第4465位 4件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第3222位 4件
（
2017年：第2490位 6件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2018-537590 | 基板把持装置 | 2018年12月20日 | |
| 特表 2018-517293 | 基板のベベルおよび裏面を保護するための装置 | 2018年 6月28日 | |
| 特表 2018-514953 | 半導体ウエハの洗浄方法および洗浄装置 | 2018年 6月 7日 | |
| 特表 2018-506854 | サイドウォールの凹部を最小化するためのバリア層除去方法 | 2018年 3月 8日 | |
| 特表 2018-506858 | 落下防止機能を有する半導体デバイス洗浄装置、および、その装置を備えるチャンバ | 2018年 3月 8日 |
5 件中 1-5 件を表示
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2018-537590 2018-517293 2018-514953 2018-506854 2018-506858
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国）～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
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