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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第4465位 4件
(2016年:第5242位 3件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第2490位 6件
(2016年:第24808位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-532789 | バリア層の除去方法及び半導体構造体の形成方法 | 2017年11月 2日 | |
特表 2017-528921 | 半導体ウェハ洗浄装置及び半導体ウェハ洗浄方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-166072 | ウェハのメッキおよび/または研磨のための装置および方法 | 2017年 9月21日 | |
特表 2017-523610 | 金属配線形成方法 | 2017年 8月17日 | |
特開 2017-131852 | 機能水製造装置及び機能水製造方法 | 2017年 8月 3日 | |
特開 2017-25148 | 洗浄用水素水の製造方法及び製造装置 | 2017年 2月 2日 |
6 件中 1-6 件を表示
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2017-532789 2017-528921 2017-166072 2017-523610 2017-131852 2017-25148
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5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
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5月20日(火) -
5月21日(水) - 東京 港区
5月21日(水) - 東京 大田区
5月22日(木) - 東京 港区
5月22日(木) -
5月23日(金) - 東京 千代田区
5月23日(金) - 大阪 大阪市
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