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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1190位 19件
（
2024年：第1078位 22件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第2282位 7件
（
2024年：第2757位 6件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2025-542487 | チップオンウェハプロセスに対応したフォトレジスト剥離方法およびシステム | 2025年12月25日 | |
| 特表 2025-540449 | 基板処理装置 | 2025年12月11日 | |
| 特表 2025-539907 | 化学気相成長炉の洗浄方法および洗浄機能を有する化学気相成長炉 | 2025年12月 9日 | |
| 特表 2025-539487 | ウェハの洗浄方法及びウェハ洗浄装置 | 2025年12月 5日 | |
| 特表 2025-538797 | 振動減衰制御方法、及び電気めっき装置用の装置、電気めっき装置並びに電子機器 | 2025年11月28日 | |
| 特表 2025-538693 | 整流装置 | 2025年11月28日 | |
| 特表 2025-537438 | 基板処理装置 | 2025年11月14日 | |
| 特表 2025-534018 | 超臨界流体を用いた基板乾燥装置および乾燥方法 | 2025年10月 9日 | |
| 特表 2025-532307 | 熱処理装置 | 2025年 9月29日 | |
| 特表 2025-531896 | ガス供給装置およびそれを含む基板処理装置 | 2025年 9月25日 | |
| 特表 2025-530514 | 基板処理装置 | 2025年 9月11日 | |
| 特表 2025-529478 | ウェハのセンタリング調整装置および調整方法 | 2025年 9月 4日 | |
| 特表 2025-527642 | 液体供給装置および基板洗浄方法 | 2025年 8月22日 | |
| 特表 2025-519913 | 基板処理装置 | 2025年 6月26日 | |
| 特表 2025-511182 | 電解めっき装置 | 2025年 4月15日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2025-542487 2025-540449 2025-539907 2025-539487 2025-538797 2025-538693 2025-537438 2025-534018 2025-532307 2025-531896 2025-530514 2025-529478 2025-527642 2025-519913 2025-511182
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