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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第4398位 4件
(2020年:第4292位 4件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2213位 7件
(2020年:第5436位 2件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2021-532406 | 有機・無機ハイブリッドフォトレジスト工程液組成物 | 2021年11月25日 | |
特表 2021-524943 | パターンプロファイル改善用化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物 | 2021年 9月16日 | |
特表 2021-523417 | 極紫外線リソグラフィー用工程液組成物、及びこれを用いるパターン形成方法 | 2021年 9月 2日 | |
特表 2021-521493 | 極紫外線リソグラフィー用工程液組成物、及びこれを用いるパターン形成方法 | 2021年 8月26日 |
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2021-532406 2021-524943 2021-523417 2021-521493
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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