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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第3248位 6件 (2022年:第3931位 5件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第2734位 6件 (2022年:第6243位 2件)
(ランキング更新日:2025年1月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-540966 | CenterとEdge間の段差の改善及びLERの改善のためのI線用ネガ型フォトレジスト組成物、及び工程マージンの改善のためのI線用ネガ型フォトレジスト組成物 | 2023年 9月27日 | |
特表 2023-536971 | 極紫外線フォトリソグラフィー用工程液組成物及びこれを用いたパターン形成方法 | 2023年 8月30日 | |
特表 2023-534014 | タングステン膜に対する窒化チタン膜のエッチング選択比を調節するためのエッチング液組成物、及びこれを用いたエッチング方法 | 2023年 8月 7日 | |
特開 2023-100888 | 有機・無機ハイブリッドフォトレジスト工程液組成物 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-25168 | 極紫外線リソグラフィー用工程液組成物、及びこれを用いるパターン形成方法 | 2023年 2月21日 | |
特開 2023-25169 | 極紫外線リソグラフィー用工程液組成物、及びこれを用いるパターン形成方法 | 2023年 2月21日 |
6 件中 1-6 件を表示
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2023-540966 2023-536971 2023-534014 2023-100888 2023-25168 2023-25169
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