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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第3248位 6件 (2022年:第3931位 5件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第2734位 6件 (2022年:第6243位 2件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7382484 | リソグラフィ用工程液組成物及びこれを用いたパターン形成方法 | 2023年11月16日 | |
特許 7349013 | フォトリソグラフィ用工程液組成物及びこれを用いたパターン形成方法 | 2023年 9月21日 | |
特許 7271691 | シリコン窒化膜エッチング組成物 | 2023年 5月11日 | |
特許 7270647 | 極紫外線リソグラフィー用工程液組成物、及びこれを用いるパターン形成方法 | 2023年 5月10日 | |
特許 7270650 | パターンプロファイル改善用化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物 | 2023年 5月10日 | |
特許 7213346 | 極紫外線リソグラフィー用工程液、及びこれを用いたパターン形成方法 | 2023年 1月26日 |
6 件中 1-6 件を表示
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7382484 7349013 7271691 7270647 7270650 7213346
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12月1日(日) -
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12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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