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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第2480位 8件
(2014年:第11848位 1件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第3984位 3件
(2014年:第10386位 1件)
(ランキング更新日:2025年9月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2013-151166 | ネガ型感光性シロキサン組成物 | 2015年12月17日 | |
再表 2013-151167 | ネガ型感光性シロキサン組成物 | 2015年12月17日 | |
特表 2015-532313 | 現像可能な下層反射防止膜 | 2015年11月 9日 | |
特表 2015-528026 | 誘導自己組織化のための中性層ポリマー組成物及びその方法 | 2015年 9月24日 | |
特表 2015-526752 | ポジ型感光性材料 | 2015年 9月10日 | |
特表 2015-521752 | ネガ型厚膜フォトレジスト | 2015年 7月30日 | |
特表 2015-512980 | ブロックコポリマーの金属除去のための方法および材料 | 2015年 4月30日 | |
特表 2015-508184 | 低誘電性光画像形成性組成物及びそれから製造した電子デバイス | 2015年 3月16日 |
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2013-151166 2013-151167 2015-532313 2015-528026 2015-526752 2015-521752 2015-512980 2015-508184
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9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
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9月2日(火) -
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
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9月11日(木) - 広島 広島
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9月12日(金) -
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