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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1346位 21件
（
2016年：第2110位 10件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1304位 15件
（2016年：第5777位 2件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-215561 | ギャップフィリング組成物、およびポリマーを含んでなる組成物を用いたパターン形成方法 | 2017年12月 7日 | |
| 特開 2017-200861 | 緻密なシリカ質膜形成用組成物 | 2017年11月 9日 | |
| 特開 2017-187609 | ギャップフィリング組成物および低分子化合物を用いたパターン形成方法 | 2017年10月12日 | |
| 特開 2017-181798 | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | 2017年10月 5日 | |
| 特開 2017-173741 | 感光性シロキサン組成物 | 2017年 9月28日 | |
| 特開 2017-165846 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | 2017年 9月21日 | |
| 特開 2017-155245 | 被膜形成用組成物 | 2017年 9月 7日 | |
| 特開 2017-151209 | ポジ型感光性シロキサン組成物 | 2017年 8月31日 | |
| 特開 2017-146554 | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | 2017年 8月24日 | |
| 特開 2017-138514 | 表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法 | 2017年 8月10日 | |
| 再表 2016-60116 | レジストパターン処理用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年 7月27日 | |
| 再表 2016-17678 | 犠牲膜用組成物、およびその製造方法、ならびにその組成物を用いて形成された空隙を具備した半導体装置、およびその組成物を用いた半導体装置の製造方法 | 2017年 6月15日 | |
| 特表 2017-516137 | 反射防止コーティング組成物およびその製造方法 | 2017年 6月15日 | |
| 再表 2015-186596 | 表面改質シリカナノ粒子の製造方法、および表面改質シリカナノ粒子 | 2017年 5月25日 | |
| 特表 2017-513032 | 自己組織化を促進するための下層組成物並びに製造及び使用方法 | 2017年 5月25日 |
22 件中 1-15 件を表示
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2017-215561 2017-200861 2017-187609 2017-181798 2017-173741 2017-165846 2017-155245 2017-151209 2017-146554 2017-138514 2016-60116 2016-17678 2017-516137 2015-186596 2017-513032
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