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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

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  2018年 出願公開件数ランキング    第1352位 18件 下降2017年:第1346位 21件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第1989位 8件 下降2017年:第1304位 15件)

(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2018-538382 ブロックコポリマーの自己組織化のための組成物及び方法 2018年12月27日
特表 2018-537703 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 2018年12月20日
特表 2018-535448 高耐熱性レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 2018年11月29日
特表 2018-534400 シラザン−シロキサンコポリマーを製造する方法、およびそのコポリマーの使用 2018年11月22日
特表 2018-517790 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 2018年 7月 5日
特表 2018-517162 光機能性膜およびその製造方法 2018年 6月28日
特開 2018-91942 平坦化膜形成組成物、これを用いた平坦化膜およびデバイスの製造方法 2018年 6月14日
特開 2018-91943 平坦化膜形成組成物、これを用いた平坦化膜およびデバイスの製造方法 2018年 6月14日
特開 2018-92130 炭素含有下層膜形成組成物、これを用いた炭素含有下層膜およびデバイスの製造方法 2018年 6月14日
特開 2018-83736 シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 2018年 5月31日
特表 2018-512614 感光性組成物および色変換フィルム 2018年 5月17日
特表 2018-511079 低PKA駆動ポリマーストリップ中の電荷錯体銅保護を促進する組成物および方法 2018年 4月19日
特表 2018-507933 ハードマスク組成物および半導体基板上での微細パターンの形成方法 2018年 3月22日
特表 2018-508029 下層膜形成用組成物、およびそれを用いた下層膜の形成方法 2018年 3月22日
特表 2018-507301 表面活性連結基を有するブロックコポリマー、組成物及びそれの方法 2018年 3月15日

20 件中 1-15 件を表示

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2018-538382 2018-537703 2018-535448 2018-534400 2018-517790 2018-517162 2018-91942 2018-91943 2018-92130 2018-83736 2018-512614 2018-511079 2018-507933 2018-508029 2018-507301

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