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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第1352位 18件
（
2017年：第1346位 21件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1989位 8件
（2017年：第1304位 15件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2018-538382 | ブロックコポリマーの自己組織化のための組成物及び方法 | 2018年12月27日 | |
| 特表 2018-537703 | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2018年12月20日 | |
| 特表 2018-535448 | 高耐熱性レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2018年11月29日 | |
| 特表 2018-534400 | シラザン−シロキサンコポリマーを製造する方法、およびそのコポリマーの使用 | 2018年11月22日 | |
| 特表 2018-517790 | 被膜形成用組成物およびそれを用いた被膜形成方法 | 2018年 7月 5日 | |
| 特表 2018-517162 | 光機能性膜およびその製造方法 | 2018年 6月28日 | |
| 特開 2018-91942 | 平坦化膜形成組成物、これを用いた平坦化膜およびデバイスの製造方法 | 2018年 6月14日 | |
| 特開 2018-91943 | 平坦化膜形成組成物、これを用いた平坦化膜およびデバイスの製造方法 | 2018年 6月14日 | |
| 特開 2018-92130 | 炭素含有下層膜形成組成物、これを用いた炭素含有下層膜およびデバイスの製造方法 | 2018年 6月14日 | |
| 特開 2018-83736 | シロキサザン化合物、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 | 2018年 5月31日 | |
| 特表 2018-512614 | 感光性組成物および色変換フィルム | 2018年 5月17日 | |
| 特表 2018-511079 | 低ＰＫＡ駆動ポリマーストリップ中の電荷錯体銅保護を促進する組成物および方法 | 2018年 4月19日 | |
| 特表 2018-507933 | ハードマスク組成物および半導体基板上での微細パターンの形成方法 | 2018年 3月22日 | |
| 特表 2018-508029 | 下層膜形成用組成物、およびそれを用いた下層膜の形成方法 | 2018年 3月22日 | |
| 特表 2018-507301 | 表面活性連結基を有するブロックコポリマー、組成物及びそれの方法 | 2018年 3月15日 |
20 件中 1-15 件を表示
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2018-538382 2018-537703 2018-535448 2018-534400 2018-517790 2018-517162 2018-91942 2018-91943 2018-92130 2018-83736 2018-512614 2018-511079 2018-507933 2018-508029 2018-507301
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