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川崎化成工業株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第1505位 16件 下降2013年:第1304位 22件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第983位 29件 上昇2013年:第1127位 24件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5641392 選択 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合性組成物を重合してなる重合物 2014年12月17日
特許 5625954 選択 ポリウレタンフォーム及びその製造方法 2014年11月19日
特許 5594510 選択 9,10−ビス(置換カルボニルオキシ)アントラセン化合物及びそれを含有する光ラジカル重合開始剤。 2014年 9月24日
特許 5581823 選択 4,4’−ジアルコキシ−2,2’−ビナフタレン−1,1’−ジ(メタ)アクリレート化合物及びその製造法。 2014年 9月 3日
特許 5582424 選択 ラジカル重合性組成物の重合方法及びその重合物 2014年 9月 3日
特許 5574153 選択 光カチオン重合性組成物 2014年 8月20日
特許 5574151 選択 9,10−ジヒドロ−9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なモノアクリレート化合物及びその製造法 2014年 8月20日
特許 5569669 選択 自己光重合性化合物及び当該自己光重合性化合物を含有する光硬化性組成物 2014年 8月13日
特許 5564824 選択 アントラセン−9,10−ジエーテル化合物、その製造法及びその重合物 2014年 8月 6日
特許 5556375 選択 光硬化性組成物 2014年 7月23日
特許 5541504 選択 光ラジカル重合性組成物及びその重合方法並びにその重合物 2014年 7月 9日
特許 5531545 選択 10−[1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−2−ナフチル]アントラセン−9(10H)−オン化合物、その製造法及びその重合物 2014年 6月25日
特許 5534175 選択 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物 2014年 6月25日
特許 5531546 選択 10−[1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−2−ナフチル]−9−アントリル(メタ)アクリレート化合物及びその製造法 2014年 6月25日
特許 5516869 選択 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物 2014年 6月11日

29 件中 1-15 件を表示

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5641392 5625954 5594510 5581823 5582424 5574153 5574151 5569669 5564824 5556375 5541504 5531545 5534175 5531546 5516869

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