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エフ イー アイ カンパニ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第2484位 8件
（
2010年：第2670位 8件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件
（2010年：第2584位 6件）
（ランキング更新日：2025年11月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4815103 | 対象を照射するための粒子−光学装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4749734 | 選択可能なビーム電流及びエネルギーの広がりを備えた粒子源 | 2011年 8月17日 | |
| 特許 4722969 | マニピュレータへのサンプル取付け方法 | 2011年 7月13日 | |
| 特許 4708653 | 相互に異なる光線が鏡径を限定する多重ビーム石版印刷装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4676714 | 永久磁気レンズおよび静電レンズを備える粒子光学装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4656790 | 寿命が延長されたショットキーエミッター | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4647866 | 高い輝度と大きいビーム電流の間で切換可能な粒子源を含む粒子光学装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4619695 | 微視的サンプルを操作する方法及び装置 | 2011年 1月26日 |
8 件中 1-8 件を表示
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4815103 4749734 4722969 4708653 4676714 4656790 4647866 4619695
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