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エフ イー アイ カンパニ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1796位 14件
（
2012年：第1129位 24件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2127位 10件
（2012年：第2117位 10件）
（ランキング更新日：2025年11月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ イー アイ カンパニの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5373251 | 収差補正手段を備える粒子光学装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5342728 | 走査電子顕微鏡の対物レンズを通した二次電子の捕集 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5322363 | 微小二次加工処理用マルチカラムＦＩＢ | 2013年10月23日 | |
| 特許 5259035 | 成形され、低密度な集束イオンビーム | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5208449 | 試料キャリア及び試料ホルダ | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5172154 | 集束イオンビームシステム用磁気増幅式誘導結合プラズマ源 | 2013年 3月27日 | 共同出願 |
| 特許 5173142 | 試料作製のための反復的周状切削 | 2013年 3月27日 | |
| 特許 5160499 | エネルギーフィルタが一体化された荷電粒子源 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5160500 | ハイブリッド位相板 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5138294 | 試験片から微小サンプルを分離する方法 | 2013年 2月 6日 |
10 件中 1-10 件を表示
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5373251 5342728 5322363 5259035 5208449 5172154 5173142 5160499 5160500 5138294
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