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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1032位 27件 (2011年:第1563位 15件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第730位 43件 (2011年:第842位 33件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5108193 | 改良された試験構造の検査方法 | 2012年12月26日 | |
特許 5102329 | 回折構造体、広帯域、偏光、エリプソメトリおよび下地構造の測定 | 2012年12月19日 | |
特許 5102035 | 半導体製造のための柔軟でハイブリッドな欠陥分類 | 2012年12月19日 | |
特許 5075904 | 回路設計図、検査方法、および処理方法 | 2012年11月21日 | |
特許 5066318 | 化学機械研磨中にキラー粒子を検出するための装置および方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5066366 | 照射装置および方法 | 2012年11月 7日 | |
特許 5060684 | 半導体ウェーハを検査するシステム及び方法 | 2012年10月31日 | |
特許 5048377 | 光散乱検査システムの構成を決定するためのコンピュータに実装された方法およびシステム | 2012年10月17日 | |
特許 5043426 | 処理条件検知ウェハおよびデータ分析システム | 2012年10月10日 | |
特許 5038570 | 顕微検査のための改良レンズ | 2012年10月 3日 | |
特許 5032114 | パターン化ウェハまたは非パターン化ウェハおよびその他の検体の検査システム | 2012年 9月26日 | |
特許 5019712 | 統合化されたプロセス条件検知用ウェハおよびデータ解析システム | 2012年 9月 5日 | |
特許 5015596 | プラズマプロセスシステムおよび該システムにおけるプラズマ境界特性測定方法 | 2012年 8月29日 | |
特許 5014337 | 対称および反対称スキャトロメトリ信号を用いたオーバレイおよびプロファイル非対称性の測定 | 2012年 8月29日 | |
特許 5013656 | 欠陥位置特定の方法および装置 | 2012年 8月29日 |
43 件中 1-15 件を表示
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5108193 5102329 5102035 5075904 5066318 5066366 5060684 5048377 5043426 5038570 5032114 5019712 5015596 5014337 5013656
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10月21日(月) -
日常実務の疑問点に答える著作権 (周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A ~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
10月22日(火) - 東京 港
10月22日(火) -
10月22日(火) -
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10月23日(水) -
10月23日(水) -
10月23日(水) -
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10月24日(木) -
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10月24日(木) - 東京 港
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10月25日(金) - 大阪 大阪市
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