特許ランキング - 出願人詳細情報 -

三菱マテリアル株式会社

※ ログインすれば出願人(三菱マテリアル株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第90位　516件（2012年：第90位　503件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第80位　490件（2012年：第83位　462件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

三菱マテリアル株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-153179	表面に亀裂の無い誘電体薄膜	2013年 8月 8日
特開 2013-147401	塩素バイパス装置	2013年 8月 1日
特開 2013-146778	耐摩耗性および耐熱衝撃性にすぐれた複合部材	2013年 8月 1日
特開 2013-149566	導電性組成物及び接合体の製造方法	2013年 8月 1日
特開 2013-146843	高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具	2013年 8月 1日
特開 2013-146839	硬質被覆層がすぐれた耐熱性と耐摩耗性を維持する表面被覆切削工具	2013年 8月 1日
特開 2013-146799	ｃＢＮ焼結体切削工具およびその製造方法	2013年 8月 1日
特開 2013-147710	透明膜およびその製造方法並びに透明膜形成用スパッタリングターゲット	2013年 8月 1日
特開 2013-150319	アンテナ装置	2013年 8月 1日
特開 2013-149910	発光体及び発光体の製造方法	2013年 8月 1日
特開 2013-149645	太陽電池の透明導電膜用組成物および透明導電膜	2013年 8月 1日
特開 2013-149644	太陽電池の透明導電膜用組成物および透明導電膜	2013年 8月 1日
特開 2013-144823	導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法	2013年 7月25日	共同出願
再表 2011-148958	フッ素含有イミド化合物の製造方法	2013年 7月25日	共同出願
特開 2013-144821	酸化物スパッタリングターゲット及び光記録媒体用保護膜	2013年 7月25日

516 件中 241-255 件を表示

... 17

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-153179 2013-147401 2013-146778 2013-149566 2013-146843 2013-146839 2013-146799 2013-147710 2013-150319 2013-149910 2013-149645 2013-149644 2013-144823 2011-148958 2013-144821

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱マテリアル株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数