特許ランキング - 出願人詳細情報 -

三菱マテリアル株式会社

※ ログインすれば出願人(三菱マテリアル株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第90位　516件（2012年：第90位　503件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第80位　490件（2012年：第83位　462件）

（ランキング更新日：2024年11月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

三菱マテリアル株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特開 2013-133251	セリウムを含有する水硬性組成物	2013年 7月 8日
特開 2013-133237	セメントクリンカ製造システム	2013年 7月 8日
特開 2013-135562	磁石回収装置	2013年 7月 8日
特開 2013-132730	すぐれた耐チッピング性、耐剥離性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具	2013年 7月 8日	共同出願
再表 2011-122585	シリコンインゴット鋳造用積層ルツボ及びその製造方法	2013年 7月 8日	共同出願
特開 2013-129030	硬質被覆層が高速断続切削ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具	2013年 7月 4日
特開 2013-129893	水蒸気バリア膜形成用蒸着材及び水蒸気バリア膜の成膜方法並びにこの方法で成膜された水蒸気バリア膜	2013年 7月 4日
特開 2013-129588	誘電体薄膜形成用組成物、誘電体薄膜の形成方法及び該方法により形成された誘電体薄膜	2013年 7月 4日
特開 2013-127111	スパッタリングターゲットおよびその製造方法	2013年 6月27日
特開 2013-126709	硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐欠損性を備える表面被覆切削工具	2013年 6月27日
特開 2013-127972	プラズマディスプレイパネル用電極の製造方法	2013年 6月27日
特開 2013-127091	顆粒状蒸着材及び蒸着膜の成膜方法並びに該蒸着材を用いて成膜された蒸着膜	2013年 6月27日
特開 2013-127090	酸化物スパッタリングターゲット及び光記録媒体用保護膜	2013年 6月27日
特開 2013-127113	導電体膜及びその製造方法並びに導電体膜形成用スパッタリングターゲット	2013年 6月27日
再表 2011-111780	ビス（フルオロスルホニル）イミドの製造方法	2013年 6月27日	共同出願

516 件中 286-300 件を表示

... 20

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2013-133251 2013-133237 2013-135562 2013-132730 2011-122585 2013-129030 2013-129893 2013-129588 2013-127111 2013-126709 2013-127972 2013-127091 2013-127090 2013-127113 2011-111780

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱マテリアル株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数