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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第368位 113件
(2011年:第425位 90件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第385位 93件
(2011年:第360位 91件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-16821 | 電動射出成形機の電力供給方法 | 2012年 1月26日 | |
特開 2012-19231 | アモルファス膜の結晶化方法および装置 | 2012年 1月26日 | |
特開 2012-15445 | レーザアニール処理装置およびレーザアニール処理方法 | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-11579 | ノズルタッチ方法およびノズルタッチ装置 | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-6241 | 射出成形機のスクリュ温度制御装置、及びスクリュ温度制御方法 | 2012年 1月12日 | |
特開 2012-894 | 微細構造体の製造方法 | 2012年 1月 5日 | |
特開 2012-835 | 射出成形機のスクリュ温度調整装置 | 2012年 1月 5日 | |
特開 2012-1380 | 水素精製システムおよび低温排熱利用システムならびに水素精製方法 | 2012年 1月 5日 |
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2012-16821 2012-19231 2012-15445 2012-11579 2012-6241 2012-894 2012-835 2012-1380
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