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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第27位 1289件 (2013年:第20位 1832件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第25位 1361件 (2013年:第24位 1436件)
(ランキング更新日:2025年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5633533 | ノズル部材、液浸露光装置、液浸露光方法、及びデバイス製造方法 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633148 | 露光装置の調整方法、露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法 | 2014年12月 3日 | |
特許 5634332 | 露光装置、ノズル部材、露光方法、及びデバイス製造方法 | 2014年12月 3日 | 共同出願 |
特許 5633508 | 圧電アクチュエータ及びレンズ鏡筒 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633181 | デプスマップ出力装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633753 | フォーカス制御方法および培養観察装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633518 | データ処理装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633111 | 変倍光学系、及び、この変倍光学系を備えた光学機器 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633380 | 撮像装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5633248 | 信号処理装置、欠陥検出装置、信号処理方法、欠陥検出方法およびプログラム | 2014年12月 3日 | |
特許 5630015 | 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法 | 2014年11月26日 | |
特許 5630345 | 駆動方法、露光方法及びデバイス製造方法 | 2014年11月26日 | |
特許 5630627 | 検出方法、光学特性計測方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | 2014年11月26日 | |
特許 5630690 | 集光光学素子、集光装置及び光発電装置 | 2014年11月26日 | |
特許 5630455 | 光学ユニット、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | 2014年11月26日 |
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5633533 5633148 5634332 5633508 5633181 5633753 5633518 5633111 5633380 5633248 5630015 5630345 5630627 5630690 5630455
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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