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アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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アプライドマテリアルズインコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2013-534695	パルス状の熱伝導流体の流れを用いたプラズマ処理装置における温度制御	2013年 9月 5日
特表 2013-534046	ＢＤＥＡＳにより堆積された二酸化ケイ素層	2013年 8月29日
特表 2013-533614	銅ウエハ研磨の化学的平坦化	2013年 8月22日
特表 2013-533575	Ｂフィールド集中装置を使用する金属シャワーヘッドを備える誘導性プラズマ源	2013年 8月22日
特表 2013-533640	処理チャンバ内のガスの流れを制御するための装置	2013年 8月22日
特表 2013-533639	流動性ＣＶＤによる間隙充填用の酸化物を多く含むライナ層	2013年 8月22日
特表 2013-533376	リソグラフィマスクの用途のためのホウ素リッチ膜のエンジニアリング	2013年 8月22日
特表 2013-533388	改善されたガス流のためのシャワーヘッド支持構造	2013年 8月22日
特表 2013-533373	エンドブロックおよびスパッタリング装置	2013年 8月22日
特表 2013-532588	保持リングの厚さおよび寿命の実時間モニタリング	2013年 8月19日
特表 2013-532912	基板上の複数のゾーンを監視するための基準ライブラリの選択	2013年 8月19日
特表 2013-532387	イオン電流を低減したプレクリーンチャンバ	2013年 8月15日
特表 2013-532231	タッチパネルで使用される透明体を製造するための方法およびシステム	2013年 8月15日
特表 2013-532386	結晶ゲルマニウムのプラズマ化学気相堆積	2013年 8月15日
特表 2013-531396	化学機械研磨中に基板エッジの応力を低減するための基板ホルダ	2013年 8月 1日

227 件中 76-90 件を表示

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2013-534695 2013-534046 2013-533614 2013-533575 2013-533640 2013-533639 2013-533376 2013-533388 2013-533373 2013-532588 2013-532912 2013-532387 2013-532231 2013-532386 2013-531396

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