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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第165位 269件
(2010年:第132位 381件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第160位 224件
(2010年:第155位 204件)
(ランキング更新日:2025年6月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2009-81774 | ベンズアントラセン化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2011年 5月 6日 | |
再表 2009-81885 | 酸化物半導体電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
再表 2009-81677 | 酸化スズ−酸化マグネシウム系スパッタリングターゲット及び透明半導体膜 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-84722 | 潤滑油組成物、該潤滑油組成物を用いた摺動機構 | 2011年 4月28日 | 共同出願 |
特開 2011-84721 | 摺動機構 | 2011年 4月28日 | 共同出願 |
特開 2011-86835 | 有機薄膜製造法及び該製造法を用いた有機薄膜と同該薄膜を用いた有機光電変換素子 | 2011年 4月28日 | 共同出願 |
特開 2011-83714 | 活性アルミナ触媒及び亜酸化窒素の除去方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-84438 | 硫化リチウム及びその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75281 | 酸化物半導体を用いた電界効果型トランジスタ及びその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-84494 | 複素環化合物の製造方法 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75308 | 環状化合物、フォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法及び半導体装置 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75223 | 高分子化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75203 | 高分子化合物及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-84790 | 水溶性洗浄液 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86770 | 光電変換素子及びその製造方法 | 2011年 4月28日 |
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2009-81774 2009-81885 2009-81677 2011-84722 2011-84721 2011-86835 2011-83714 2011-84438 2009-75281 2011-84494 2009-75308 2009-75223 2009-75203 2011-84790 2011-86770
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