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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第291位 145件 (2011年:第406位 95件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第365位 100件 (2011年:第423位 78件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-15325 | パターン画像の形成方法 | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-13872 | イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2012年 1月19日 | |
特開 2012-6944 | イソキサゾリン置換ベンズアミド化合物及び有害生物防除剤 | 2012年 1月12日 | |
再表 2010-13555 | 新規脂質ジペプチド並びにゲル | 2012年 1月12日 | |
再表 2010-13660 | 導電性コーティング組成物 | 2012年 1月12日 | |
再表 2010-8050 | 無水アンチモン酸亜鉛コロイド粒子の疎水性有機溶媒分散ゾル及びその製造方法 | 2012年 1月 5日 | |
再表 2010-5048 | イソキサゾリン置換安息香酸アミド化合物の製造方法 | 2012年 1月 5日 | |
再表 2010-7915 | ポジ型レジスト組成物及びマイクロレンズの製造方法 | 2012年 1月 5日 | |
再表 2010-5028 | ポジ型感光性樹脂組成物及びポリヒドロキシアミド樹脂 | 2012年 1月 5日 | |
再表 2010-10928 | コーティング組成物及びパターン形成方法 | 2012年 1月 5日 |
145 件中 136-145 件を表示
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2012-15325 2012-13872 2012-6944 2010-13555 2010-13660 2010-8050 2010-5048 2010-7915 2010-5028 2010-10928
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