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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第291位 145件
(2011年:第406位 95件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第365位 100件
(2011年:第423位 78件)
(ランキング更新日:2025年3月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5110276 | 精密鋳造鋳型用スラリー | 2012年12月26日 | |
特許 5110282 | 電荷輸送性ポリマーを含有する電荷輸送性ワニス及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2012年12月26日 | |
特許 5109371 | 垂直配向用液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2012年12月26日 | |
特許 5110257 | 電荷輸送性ワニス及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2012年12月26日 | |
特許 5110283 | 光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物 | 2012年12月26日 | |
特許 5109979 | 液晶配向処理剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2012年12月26日 | |
特許 5104752 | ピラゾール化合物及びトロンボポエチンレセプター活性化剤 | 2012年12月19日 | |
特許 5099382 | 3次元パターン形成材料 | 2012年12月19日 | |
特許 5099381 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びにレジスト下層膜形成組成物用添加剤 | 2012年12月19日 | |
特許 5093525 | 感光性樹脂及びマイクロレンズの製造方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5099089 | ヒドラジド化合物の製造方法 | 2012年12月12日 | |
特許 5083566 | ハーフ露光用ポジ型感光性樹脂層を用いる透明性硬化膜の製造方法 | 2012年11月28日 | |
特許 5083573 | レジスト下層膜形成組成物 | 2012年11月28日 | |
特許 5083501 | 効果に優れる農薬組成物 | 2012年11月28日 | |
特許 5083568 | ポジ型感光性樹脂組成物 | 2012年11月28日 |
100 件中 1-15 件を表示
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5110276 5110282 5109371 5110257 5110283 5109979 5104752 5099382 5099381 5093525 5099089 5083566 5083573 5083501 5083568
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