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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件
(2010年:第403位 108件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件
(2010年:第384位 76件)
(ランキング更新日:2025年6月5日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2009-110603 | 単一蛍光分子検出法による高分子薄膜中の拡散係数の測定方法 | 2011年 7月14日 | |
再表 2009-110634 | アロイルビフェニレン骨格を有する高分子化合物及び熱硬化膜形成用高分子組成物 | 2011年 7月14日 | |
再表 2009-107799 | チオフェン化合物及びその中間体の製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
再表 2009-107796 | カルボキシル基を有するイソチオシアナト化合物の製造方法 | 2011年 7月 7日 | |
特開 2011-126786 | 水面拡散性および水中分散性が向上する水性懸濁状農薬組成物 | 2011年 6月30日 | |
再表 2009-104643 | 光硬化膜形成組成物及び光硬化膜形成方法 | 2011年 6月23日 | |
再表 2009-104685 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2011年 6月23日 | |
再表 2009-104552 | 環状アミノ基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2011年 6月23日 | |
特開 2011-122081 | 熱硬化性膜形成組成物 | 2011年 6月23日 | |
再表 2009-101974 | シリカコロイド粒子及びその製造方法、並びにその有機溶媒分散シリカゾル、重合性化合物分散シリカゾル及びジカルボン酸無水物分散シリカゾル | 2011年 6月 9日 | |
再表 2009-101938 | 半導体素子保護膜用塗布組成物 | 2011年 6月 9日 | |
特開 2011-107596 | リソグラフィー用サイドウォール形成組成物 | 2011年 6月 2日 | |
再表 2009-88046 | 液晶配向処理剤、及びそれを用いた液晶表示素子 | 2011年 5月26日 | |
再表 2009-96340 | 硫黄原子を含有するレジスト下層膜形成用組成物及びレジストパターンの形成方法 | 2011年 5月26日 | |
再表 2009-93711 | 液晶配向剤、及び液晶表示素子 | 2011年 5月26日 |
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2009-110603 2009-110634 2009-107799 2009-107796 2011-126786 2009-104643 2009-104685 2009-104552 2011-122081 2009-101974 2009-101938 2011-107596 2009-88046 2009-96340 2009-93711
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