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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第406位 95件
(2010年:第403位 108件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第423位 78件
(2010年:第384位 76件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-51977 | ジヒドロイソキサゾール置換安息香酸化合物の光学活性体とジアステレオマー塩及びその製造方法 | 2011年 3月17日 | |
再表 2009-57458 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 | 2011年 3月10日 | |
特開 2011-42532 | 活性酸素発生材料用組成物および活性酸素発生材料 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-42533 | 活性酸素発生材料用組成物および活性酸素発生材料 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-42652 | 脂環式テトラカルボン酸化合物の製造法 | 2011年 3月 3日 | |
再表 2009-54413 | 半導体装置の作製方法 | 2011年 3月 3日 | |
再表 2009-51186 | 熱硬化膜形成用ポリエステル組成物 | 2011年 3月 3日 | |
再表 2009-51187 | 熱硬化膜形成用ポリエステル樹脂溶液 | 2011年 3月 3日 | |
特開 2011-37926 | 長鎖オキシアミノポリオール型ゲル化剤およびゲル | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-37817 | 殺虫、殺ダニ、殺線虫、殺軟体動物、殺菌又は殺バクテリア剤組成物及び病害虫の防除方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-37746 | ハロアルキルスルホンアニリド化合物の製造方法 | 2011年 2月24日 | |
特開 2011-37716 | 抗菌性ハイパーブランチポリマー | 2011年 2月24日 | 共同出願 |
再表 2009-44742 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法並びにレジスト下層膜形成組成物用添加剤 | 2011年 2月10日 | |
再表 2009-44879 | 金属酸化物複合ゾル、コーティング組成物及び光学部材 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29422 | 高段差基板向け保護膜用塗布組成物 | 2011年 2月10日 |
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2011-51977 2009-57458 2011-42532 2011-42533 2011-42652 2009-54413 2009-51186 2009-51187 2011-37926 2011-37817 2011-37746 2011-37716 2009-44742 2009-44879 2011-29422
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6月10日(火) -
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