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日産化学工業株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第291位 145件
（
2011年：第406位 95件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第365位 100件
（2011年：第423位 78件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2010-61886 | 薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜形成組成物 | 2012年 4月26日 | |
| 再表 2010-61883 | 薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜形成剤 | 2012年 4月26日 | |
| 再表 2010-61774 | アウトガス発生が低減されたレジスト下層膜形成組成物 | 2012年 4月26日 | |
| 特開 2012-79964 | 半導体ウェーハ用研磨液組成物 | 2012年 4月19日 | |
| 再表 2010-58777 | 電荷輸送性材料および電荷輸送性ワニス | 2012年 4月19日 | |
| 再表 2010-58754 | シリカ粒子を含有する重合性有機化合物の組成物の製造方法 | 2012年 4月19日 | |
| 再表 2010-58776 | 電荷輸送性材料および電荷輸送性ワニス | 2012年 4月19日 | |
| 特開 2012-72175 | ピタバスタチンカルシウム塩の保存方法 | 2012年 4月12日 | |
| 再表 2010-55852 | レジスト下層膜形成組成物及びそれを用いたパターニング方法 | 2012年 4月12日 | |
| 特開 2012-65644 | 造血幹細胞の製造方法 | 2012年 4月 5日 | 共同出願 |
| 再表 2010-53128 | 液晶配向処理剤 | 2012年 4月 5日 | |
| 特開 2012-61599 | ベンゾシクロブテン樹脂のインプリント技術への適用及び当該技術によるパターン形成方法 | 2012年 3月29日 | |
| 再表 2010-50523 | ジアミン、ポリイミド、液晶配向剤及び液晶配向膜 | 2012年 3月29日 | |
| 特開 2012-62410 | 透明な無機複合樹脂組成物の製造方法 | 2012年 3月29日 | |
| 再表 2010-50466 | 太陽電池用波長変換膜形成組成物及び太陽電池用波長変換膜並びに太陽電池 | 2012年 3月29日 |
145 件中 91-105 件を表示
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2010-61886 2010-61883 2010-61774 2012-79964 2010-58777 2010-58754 2010-58776 2012-72175 2010-55852 2012-65644 2010-53128 2012-61599 2010-50523 2012-62410 2010-50466
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