三星電子株式会社
※ ログインすれば出願人(三星電子株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第61位 707件
（
2012年：第84位 516件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第55位 679件
（
2012年：第32位 952件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
三星電子株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5208691 | 像ぶれ補正装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5208493 | 撮像装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5207695 | 工程管理方法およびその方法を利用したシステム | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209862 | ＤＲＭライセンス提供方法及びシステム | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210489 | 多次元映像フォーマットの変換装置及びその方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209289 | 半導体記憶装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209852 | 多値抵抗体メモリ素子とその製造及び動作方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209224 | 半導体素子のボンディングパッド構造の製造方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5209196 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5207817 | シリコンナノワイヤーを利用した発光ダイオード及びその製造方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5207745 | ポリシリコンの形成方法、当該ポリシリコンを備える薄膜トランジスタ及びその形成方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5207594 | イメージセンサ | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5207477 | 放熱部材を具備したＣＯＦ型半導体パッケージ | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210526 | リッジ構造を有する半導体レーザダイオード | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210385 | 多重ホップ中継方式の無線通信システムにおける再送信応答時点決定装置及び方法 | 2013年 6月12日 |
679 件中 346-360 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5208691 5208493 5207695 5209862 5210489 5209289 5209852 5209224 5209196 5207817 5207745 5207594 5207477 5210526 5210385
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三星電子株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
5月30日(金) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市北区豊崎3-20-9 三栄ビル７階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都府中市寿町一丁目１－１１ 第２福井ビル５階 No.2 Fukui Bldg. 5F 1-11, Kotobukicho 1chome, Fuchu-shi Tokyo JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
