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富士通セミコンダクター株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第144位 349件
（
2012年：第103位 453件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第64位 612件
（2012年：第59位 620件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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富士通セミコンダクター株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5195408 | マルチコアシステム | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194932 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194461 | 電流密度制限チェック方法及び電流密度制限チェック装置 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5193406 | クロック分配回路の設計方法，設計装置および設計プログラム並びに同プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5195393 | 半導体メモリ、半導体メモリの製造方法および半導体メモリの試験方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5195140 | 半導体メモリおよびメモリシステム | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194805 | 半導体装置及びその製造方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194743 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194549 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194521 | 半導体装置の製造方法、パターン形成方法及びパターン補正装置 | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5194954 | レベルコンバータ | 2013年 5月 8日 | |
| 特許 5186738 | 研磨パッドの製造方法及び被研磨体の研磨方法 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5187309 | フォトマスクの形成方法および半導体装置の製造方法 | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5186802 | マイクロプロセッサ | 2013年 4月24日 | |
| 特許 5190198 | 半導体装置及びその製造方法 | 2013年 4月24日 |
612 件中 421-435 件を表示
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5195408 5194932 5194461 5193406 5195393 5195140 5194805 5194743 5194549 5194521 5194954 5186738 5187309 5186802 5190198
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