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富士通セミコンダクター株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第801位 37件
（
2015年：第270位 154件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第419位 69件
（2015年：第157位 199件）
（ランキング更新日：2025年6月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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富士通セミコンダクター株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6044260 | 半導体ウェハ及び半導体装置の製造方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6044294 | 半導体装置、半導体装置の製造方法およびヒューズ切断方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6037856 | 反射型マスクの検査装置、露光装置、反射型マスクを検査する方法及び露光方法 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6032415 | 半導体装置の製造方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6035745 | 多値磁気抵抗メモリおよび多値磁気抵抗メモリの製造方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6024354 | 半導体集積回路装置及びその製造方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6028516 | マスクパターンの製造方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6018021 | マルチコアアーキテクチャにおけるリソース管理 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6015531 | 論理回路 | 2016年10月26日 | |
| 特許 6011115 | 被水防止装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6003068 | 露光方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6003272 | 露光方法および露光装置 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6003363 | 半導体装置とその製造方法 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 5998844 | 半導体装置およびその製造方法 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 5994432 | マスクパターンの形成方法 | 2016年 9月21日 |
70 件中 1-15 件を表示
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6044260 6044294 6037856 6032415 6035745 6024354 6028516 6018021 6015531 6011115 6003068 6003272 6003363 5998844 5994432
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