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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第158位 313件
(2012年:第176位 256件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第176位 235件
(2012年:第224位 173件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-112857 | イリジウムの回収方法 | 2013年 6月10日 | |
特開 2013-107789 | グラフェン製造用銅箔及びグラフェンの製造方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-107036 | グラフェン製造用銅箔及びグラフェンの製造方法 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-108122 | 放熱性及び繰り返し曲げ加工性に優れた銅合金板 | 2013年 6月 6日 | |
再表 2011-93481 | 窒化物系化合物半導体基板の製造方法及び窒化物系化合物半導体自立基板 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-103861 | グラフェン製造用銅箔、及びグラフェンの製造方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-104082 | Cu−Co−Si系合金及びその製造方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-104078 | Cu−Co−Si系合金及びその製造方法 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-104068 | 電子材料用Cu−Ni−Si−Co系銅合金 | 2013年 5月30日 | |
特開 2013-100591 | コルソン合金及びその製造方法 | 2013年 5月23日 | |
特開 2013-100586 | チタン銅及びその製造方法 | 2013年 5月23日 | |
再表 2011-90040 | エピタキシャル結晶基板の製造方法 | 2013年 5月23日 | |
再表 2011-89943 | 金属の表面処理剤 | 2013年 5月23日 | |
再表 2011-90044 | 二次電池負極集電体用銅箔 | 2013年 5月23日 | |
再表 2011-89760 | 強磁性材スパッタリングターゲット | 2013年 5月20日 |
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2013-112857 2013-107789 2013-107036 2013-108122 2011-93481 2013-103861 2013-104082 2013-104078 2013-104068 2013-100591 2013-100586 2011-90040 2011-89943 2011-90044 2011-89760
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6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
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