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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第158位 313件 (2012年:第176位 256件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第176位 235件 (2012年:第224位 173件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2013-204140 | チタン銅 | 2013年10月 7日 | |
特開 2013-199694 | スパッタリングターゲット又はバッキングプレート及びこれらの洗浄方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-201249 | 半導体電子素子および半導体電子素子の製造方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-199082 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板用キャリア付銅箔及びプリント配線板 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-199707 | キャリア付銅箔、キャリア付銅箔の製造方法、プリント配線板用キャリア付銅箔及びプリント配線板 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-199698 | 希土類元素含有物質からの希土類元素濃縮方法 | 2013年10月 3日 | 共同出願 |
特開 2013-201250 | 窒化物系化合物半導体層、窒化物半導体発光デバイス、窒化物系化合物半導体層の製造方法および窒化物半導体発光デバイスの製造方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-199671 | 高ビスマス品位鉛アノードの電解方法 | 2013年10月 3日 | |
特開 2013-197241 | ネオジム系希土類焼結磁石及びその製造方法。 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197240 | Nd−Fe−B系希土類焼結磁石及びその製造方法。 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-197296 | ワイヤボンディング用またはAuスタッドバンプ用電極 | 2013年 9月30日 | 共同出願 |
特開 2013-193925 | Ta2O5スパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2013年 9月30日 | |
特開 2013-189703 | 電子部品用金属材料及びその製造方法 | 2013年 9月26日 | |
特開 2013-189687 | 銅鉱石の浸出方法 | 2013年 9月26日 | |
特開 2013-189354 | シリコン単結晶の製造装置およびシリコン単結晶の製造方法 | 2013年 9月26日 |
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2013-204140 2013-199694 2013-201249 2013-199082 2013-199707 2013-199698 2013-201250 2013-199671 2013-197241 2013-197240 2013-197296 2013-193925 2013-189703 2013-189687 2013-189354
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11月27日(水) -
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11月27日(水) -
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11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
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11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
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