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ＮＳＫテクノロジー株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第795位 38件
（
2011年：第12004位 1件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第991位 29件
（2011年：第24706位 0件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＮＳＫテクノロジー株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-58324 | 近接露光用マスク及び近接露光装置ならびに近接露光方法 | 2012年 3月22日 | |
| 特開 2012-47937 | 露光評価用マスクおよび露光評価方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-47965 | 露光システム及びその制御方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-47967 | 露光システム及びその制御方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-48061 | 露光システム及びその制御方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-49326 | マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法 | 2012年 3月 8日 | |
| 特開 2012-42931 | 露光装置用光照射装置、光照射装置の制御方法、露光装置及び露光方法 | 2012年 3月 1日 | |
| 特開 2012-32805 | 露光ユニット | 2012年 2月16日 |
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2012-58324 2012-47937 2012-47965 2012-47967 2012-48061 2012-49326 2012-42931 2012-32805
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