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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第4165位 4件
(2013年:第1715位 15件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第959位 30件
(2013年:第2956位 6件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5557387 | 研磨装置及び研磨方法 | 2014年 7月23日 | |
特許 5550180 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2014年 7月16日 | |
特許 5542383 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 7月 9日 | |
特許 5527902 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 6月25日 | |
特許 5517235 | シリコンウエハの熱処理方法 | 2014年 6月11日 | |
特許 5517354 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 6月11日 | |
特許 5512137 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 6月 4日 | |
特許 5498678 | シリコンウェーハの製造方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5495920 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 5月21日 | |
特許 5480036 | シリコン単結晶の製造方法 | 2014年 4月23日 | |
特許 5473818 | 研磨装置及び研磨方法 | 2014年 4月16日 | |
特許 5455449 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 3月26日 | |
特許 5441261 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 3月12日 | |
特許 5427636 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 2月26日 | |
特許 5410769 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2014年 2月 5日 |
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5557387 5550180 5542383 5527902 5517235 5517354 5512137 5498678 5495920 5480036 5473818 5455449 5441261 5427636 5410769
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