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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1173位 20件
（
2023年：第1834位 12件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1355位 15件
（2023年：第1996位 9件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7607277 | 酸素濃度予測システムおよび酸素濃度制御システム | 2024年12月27日 | |
| 特許 7602877 | シリコン基板及びその製造方法 | 2024年12月19日 | |
| 特許 7590839 | シリコンウェーハの製造方法 | 2024年11月27日 | |
| 特許 7583599 | 半導体単結晶の製造方法および半導体単結晶の製造装置 | 2024年11月14日 | |
| 特許 7561498 | シリコン単結晶の製造方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7545347 | シリコンウェーハの製造方法およびシリコンウェーハ | 2024年 9月 4日 | |
| 特許 7537940 | シリコンウェーハの貼付装置および貼付方法 | 2024年 8月21日 | |
| 特許 7519784 | シリコンウェーハの製造方法 | 2024年 7月22日 | |
| 特許 7509528 | シリコン単結晶の製造方法 | 2024年 7月 2日 | |
| 特許 7495238 | シリコンウェーハの製造方法 | 2024年 6月 4日 | |
| 特許 7491705 | 半導体シリコンウェーハの製造方法 | 2024年 5月28日 | |
| 特許 7458833 | シリコン原料の洗浄装置 | 2024年 4月 1日 | |
| 特許 7437165 | エピタキシャルシリコンウェーハにおける欠陥の発生予測方法およびエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2024年 2月22日 | |
| 特許 7429122 | シリコン単結晶の製造方法 | 2024年 2月 7日 | |
| 特許 7412276 | 原料シリコンの充填方法 | 2024年 1月12日 |
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7607277 7602877 7590839 7583599 7561498 7545347 7537940 7519784 7509528 7495238 7491705 7458833 7437165 7429122 7412276
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