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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1489位 16件
（
2020年：第1973位 11件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1853位 9件
（2020年：第2418位 6件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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グローバルウェーハズ・ジャパン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6980621 | シリコン結晶の分析用試料の調製方法およびシリコン結晶中の微量不純物の定量方法 | 2021年12月15日 | |
| 特許 6978928 | シリコンウェーハの評価方法 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6979007 | シリコンウェーハの極低酸素濃度測定方法 | 2021年12月 8日 | |
| 特許 6971622 | 半導体ウェハの製造方法及び半導体ウェハ | 2021年11月24日 | |
| 特許 6912776 | 誘電体膜の電気伝導率測定装置 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6901277 | スクラブ洗浄方法およびスクラブ洗浄装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6878188 | シリコンウェーハの抵抗率測定方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6867627 | 界面準位密度測定装置 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6845020 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2021年 3月17日 |
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6980621 6978928 6979007 6971622 6912776 6901277 6878188 6867627 6845020
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