ホーム > 特許ランキング > 富士フイルム株式会社 > 2013年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(富士フイルム株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2013年 出願公開件数ランキング 第15位 2332件 (2012年:第10位 3146件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第12位 2526件 (2012年:第14位 2275件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2013-230587 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-232868 | プロファイル設定装置、方法、プログラム、及びプロファイル管理システム | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231868 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物および層間絶縁膜 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-230677 | 流体吐出デバイス内で流体をバイパス循環させる流体吐出デバイス及び方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-230678 | 流体吐出モジュールを装着するブラケット及びその事前位置合わせ方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-230561 | 複合フィルム | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231135 | 透明組成物、並びに、これを用いる透明膜、カメラモジュール、及び、透明膜の形成方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-232401 | 含窒素カーボンアロイとその製造方法、カーボンアロイ触媒および燃料電池 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-230685 | 印字装置および印字方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231897 | 感光性樹脂組成物、感光性積層体、フレキシブル回路基板、及び永久パターン形成方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-230585 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231909 | 蛍光体シートのクリーナ、及び蛍光体シートのクリーナを備えた放射線画像情報読取装置 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231955 | 光学フィルム、偏光板及びこれを用いた画像表示装置 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-231233 | 高周波同調基板バイアス物理的蒸着装置及びその駆動方法 | 2013年11月14日 | |
特開 2013-228684 | 露光装置及び方法、パターンフィルムの製造方法 | 2013年11月 7日 |
2332 件中 166-180 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2013-230587 2013-232868 2013-231868 2013-230677 2013-230678 2013-230561 2013-231135 2013-232401 2013-230685 2013-231897 2013-230585 2013-231909 2013-231955 2013-231233 2013-228684
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。富士フイルム株式会社の知財の動向チェックに便利です。
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング