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富士フイルム株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第18位 1840件 下降2013年:第15位 2332件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第8位 2997件 上昇2013年:第12位 2526件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-199925 固体撮像素子及びその製造方法、赤外光カットフィルタ形成用硬化性組成物、カメラモジュール 2014年10月23日
特開 2014-199359 3D画像表示装置用光学フィルムおよびその製造方法、偏光板、3D画像表示装置 2014年10月23日
特開 2014-199413 光学補償フィルムの製造方法、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置 2014年10月23日
特開 2014-198819 芳香環含有化合物、硬化性樹脂組成物、光学部品およびレンズ 2014年10月23日
特開 2014-198453 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版 2014年10月23日
特開 2014-198816 アゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 2014年10月23日
特開 2014-199720 導電膜形成用組成物およびこれを用いる導電膜の製造方法 2014年10月23日
特開 2014-198353 パターン配列用基板およびパターン配列板の製造方法 2014年10月23日
特開 2014-198776 フタロシアニン化合物、着色組成物、捺染方法、及び布帛 2014年10月23日
特開 2014-199273 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、フォトマスク、及び、パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス 2014年10月23日
特開 2014-199389 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス 2014年10月23日
特開 2014-199888 高分子複合圧電体 2014年10月23日
特開 2014-199358 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス 2014年10月23日
特開 2014-199292 フィルムミラー及びその製造方法、並びに太陽光反射板 2014年10月23日
特開 2014-199641 レイアウト編集装置、レイアウト編集方法およびプログラム 2014年10月23日

1840 件中 256-270 件を表示

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2014-199925 2014-199359 2014-199413 2014-198819 2014-198453 2014-198816 2014-199720 2014-198353 2014-198776 2014-199273 2014-199389 2014-199888 2014-199358 2014-199292 2014-199641

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