ＨＯＹＡ株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第80位 531件
（
2011年：第54位 677件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第78位 484件
（2011年：第39位 754件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2012-153062 | 成形品取出装置 | 2012年 8月16日 | |
| 特開 2012-153602 | 光学ガラス、プレス成形用プリフォーム、光学素子およびそれらの製造方法 | 2012年 8月16日 | |
| 再表 2010-92899 | フォトマスクブランク及びその製造方法、並びにフォトマスク及び半導体装置の製造方法 | 2012年 8月16日 | |
| 特開 2012-154976 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 | 2012年 8月16日 | |
| 特開 2012-155257 | 眼鏡製造方法、眼鏡および眼鏡製造システム | 2012年 8月16日 | |
| 特開 2012-150445 | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-150444 | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-150443 | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-147871 | ホワイトバランス調整方法及び電子内視鏡装置 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-147831 | 走査位置補正装置 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-150446 | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-150441 | レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-148447 | 基板作製方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 特開 2012-148957 | 携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板、携帯型電子機器用画像表示装置、携帯型電子機器、および携帯型電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法 | 2012年 8月 9日 | |
| 再表 2010-90014 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子 | 2012年 8月 9日 |
531 件中 211-225 件を表示
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2012-153062 2012-153602 2010-92899 2012-154976 2012-155257 2012-150445 2012-150444 2012-150443 2012-147871 2012-147831 2012-150446 2012-150441 2012-148447 2012-148957 2010-90014
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