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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第54位 677件
(2010年:第55位 742件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第39位 754件
(2010年:第27位 811件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-253155 | 走査光学系におけるコリメータレンズ保持及び調整構造 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-254421 | 信号伝送装置および電子内視鏡 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-251843 | 昇降搬送装置 | 2011年12月15日 | |
特開 2011-251060 | 洗浄装置及び洗浄方法 | 2011年12月15日 | |
再表 2009-157506 | 位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク | 2011年12月15日 | |
特開 2011-245787 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-247875 | 光学素子形状評価方法、光学素子形状評価プログラム、及び光学素子形状評価装置 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-245830 | プラスチックレンズ成形用成形型およびプラスチックレンズの製造方法 | 2011年12月 8日 | 共同出願 |
特開 2011-244961 | 内視鏡プロセッサおよび内視鏡ユニット | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-248018 | 測距点確定システム、オートフォーカスシステム、およびカメラ | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-248049 | ズームレンズ系 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-248639 | 電圧制御回路 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-245816 | マスクブランク用基板の製造方法、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-245061 | スペーサ | 2011年12月 8日 | 共同出願 |
特開 2011-248373 | マスクブランク用基板、マスクブランク、露光用マスク、半導体デバイスの製造方法、及びマスクブランク用基板の製造方法 | 2011年12月 8日 |
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2011-253155 2011-254421 2011-251843 2011-251060 2009-157506 2011-245787 2011-247875 2011-245830 2011-244961 2011-248018 2011-248049 2011-248639 2011-245816 2011-245061 2011-248373
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