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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第54位 677件
(2010年:第55位 742件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第39位 754件
(2010年:第27位 811件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-233080 | ワーク用処理装置 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-231009 | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-232605 | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び多階調フォトマスクの使用方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-230178 | 眼鏡レンズ用マーキング装置 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-233194 | ピックアップ装置用のレンズユニット及びレンズ | 2011年11月17日 | |
特開 2011-231010 | 携帯機器用カバーガラスのガラス基材の製造方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-224982 | 離型層付きモールドおよびその製造方法ならびにモールドの製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225383 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-224115 | 内視鏡 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225384 | 光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とその製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227351 | 広角レンズ系 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227223 | 多階調マスクの製造方法およびエッチング装置 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-224091 | 電子内視鏡及びシステム | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227260 | 再生フォトマスク用基板の製造方法、再生フォトマスク用ブランクの製造方法、再生フォトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-227461 | マスクブランク、転写用マスクおよびこれらの製造方法、並びに半導体デバイスの製造方法 | 2011年11月10日 |
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2011-233080 2011-231009 2011-232605 2011-230178 2011-233194 2011-231010 2011-224982 2011-225383 2011-224115 2011-225384 2011-227351 2011-227223 2011-224091 2011-227260 2011-227461
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