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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第54位 677件
(2010年:第55位 742件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第39位 754件
(2010年:第27位 811件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-220999 | 基板の内径測定装置及び内径測定方法 | 2011年11月 4日 | 共同出願 |
特開 2011-219358 | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、露光用マスクの製造方法、反射型マスクブランクスの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 | 2011年11月 4日 | |
特開 2011-215389 | レンズ鏡筒 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215388 | 防振機能付き光学機器 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-213551 | ガラスブランクの製造方法、磁気録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215197 | フォトマスク及びその製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-212391 | 内視鏡装置及び送気送液ノズル | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215387 | 光学機器における防振ユニット | 2011年10月27日 | |
特開 2011-213549 | ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215657 | フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215614 | 多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215244 | レジスト層の現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215245 | フォトクロミックレンズ | 2011年10月27日 | |
特開 2011-213550 | ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-215154 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 | 2011年10月27日 |
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2011-220999 2011-219358 2011-215389 2011-215388 2011-213551 2011-215197 2011-212391 2011-215387 2011-213549 2011-215657 2011-215614 2011-215244 2011-215245 2011-213550 2011-215154
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