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ＨＯＹＡ株式会社

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ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-213549	ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215387	光学機器における防振ユニット	2011年10月27日
特開 2011-215657	フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215245	フォトクロミックレンズ	2011年10月27日
特開 2011-216138	基板作製方法および基板	2011年10月27日
特開 2011-215244	レジスト層の現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215388	防振機能付き光学機器	2011年10月27日
特開 2011-215226	多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク用ブランク及びパターン転写方法	2011年10月27日
特開 2011-215390	可動鏡筒を備える光学機器	2011年10月27日
特開 2011-215614	多階調フォトマスク、多階調フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法	2011年10月27日
特開 2011-215241	レジスト処理方法、レジスト組成物、レジスト付き基板、レジスト付きマスクブランクス、レジスト付き基板の製造方法、及びレジスト付きマスクブランクスの製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215242	レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法	2011年10月27日
特開 2011-215243	レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法	2011年10月27日
特開 2011-209759	５階調フォトマスクの製造方法及びパターン転写方法	2011年10月20日
特開 2011-209651	光学要素の位置制御装置	2011年10月20日

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2011-213549 2011-215387 2011-215657 2011-215245 2011-216138 2011-215244 2011-215388 2011-215226 2011-215390 2011-215614 2011-215241 2011-215242 2011-215243 2011-209759 2011-209651

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