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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第80位 531件 (2011年:第54位 677件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第78位 484件 (2011年:第39位 754件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-213889 | インプリント装置及び離型方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216276 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-213822 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-216617 | レジストパターン形成方法およびモールド製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-213821 | 眼鏡レンズの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-214375 | 磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215829 | マスクブランク製造用スパッタリング装置及び表示装置用マスクブランクの製造方法並びに表示装置用マスクの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215677 | 転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-215642 | 眼鏡レンズ | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-212760 | レジストパターン形成方法およびモールド製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212125 | フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-210701 | 光学ガラスの研削加工方法及び光学ガラスレンズの製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212082 | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、転写マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-210699 | 光学ガラスの加工方法及び光学ガラスレンズの製造方法 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212081 | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、転写マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 | 2012年11月 1日 |
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2012-213889 2012-216276 2012-213822 2012-216617 2012-213821 2012-214375 2012-215829 2012-215677 2012-215642 2012-212760 2012-212125 2012-210701 2012-212082 2012-210699 2012-212081
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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